永光化學(xué)展出全系列光阻劑 滿足觸控廠所需
北京時(shí)間2013年08月30日消息，寶威科技網(wǎng)訊，永光化學(xué)參加2013年臺(tái)灣觸控面板暨光學(xué)膜製程設(shè)備材料展，在臺(tái)北南港展覽館L區(qū)818攤位，展出觸控面板光阻劑、低溫多晶硅(LTPS) TFT-LCD光阻劑、軟性基材用的覆晶薄膜封裝(COF)光阻劑、主動(dòng)式有機(jī)發(fā)光二極體(AMOLED)光阻劑等等應(yīng)用在光電領(lǐng)域的多項(xiàng)產(chǎn)品。
永光化學(xué)自1996年發(fā)展電子化學(xué)事業(yè)，一路走來(lái)不間斷的建立自主技術(shù)，在低溫多晶硅(LTPS) TFT LCD製程關(guān)鍵化學(xué)品已上市EPL386及EPL388正型光阻劑；在觸控領(lǐng)域方面，新世代絕緣層透明光阻劑EOC300Series產(chǎn)品已上市，該產(chǎn)品具有高透明性、接著性佳、高硬度、低曝光能量、易顯影及耐蝕刻特性、耐高溫、耐高濕之特性，運(yùn)用于觸控面板絕緣層(OC1)與保護(hù)層(OC2)，已成為事業(yè)營(yíng)運(yùn)的主力產(chǎn)品。
永光提供EPL388光阻劑產(chǎn)品以滿足高解析度、高色彩飽和度等平面顯示器的基本需求；而AMOLED顯示技術(shù)應(yīng)用在手機(jī)及平板電腦的比例已明顯提高，永光也提供EPL356及ENPI300光阻劑滿足客戶所需。
EPL388光阻劑應(yīng)用在LTPS的TFT-LCD製程，由于具備高解析度、高敏感度的特性，能有效降低曝光時(shí)間以增加產(chǎn)能，而且在面板製程中與顯影液的相容性高，可有效解決製程殘留問(wèn)題。
EPL356光阻劑應(yīng)用在AMOLED面板製程中，可用在絕緣層(insulator)以及ITO與金屬線路的圖形化，具有高色彩飽和度、高解析度、耐蝕刻性佳等優(yōu)點(diǎn)。ENPI300光阻劑，應(yīng)用在間隔層(Pillar or Rib)，具有高耐熱性佳、光阻Overhang角度佳等優(yōu)點(diǎn)。
在Flexible應(yīng)用方面，永光專利新產(chǎn)品FSR110&112為正型光阻劑，主要應(yīng)用在可撓性顯示器的產(chǎn)品，具高解析度、曝光能量低、可撓曲性、涂佈性及良好附著性、并且可使用1%碳酸鈉系統(tǒng)顯影等特性；將推廣至面板驅(qū)動(dòng)IC的COF&TAPE製程應(yīng)用，也可涂佈在軟性基材上，將是高階智慧型手機(jī)、平板電腦等3C電子商品朝向輕、薄、短、小及精緻化發(fā)展趨勢(shì)中，不可或缺之關(guān)鍵及前瞻性製程材料。
近年來(lái)智慧型手機(jī)的投射電容觸控技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了人們使用便利的多點(diǎn)觸控功能。永光也持續(xù)地隨著觸控技術(shù)的演進(jìn)，與產(chǎn)業(yè)同步精進(jìn)，不斷推出透明、絕緣度更好、附著性更佳的產(chǎn)品，其中永光EOC系列透明絕緣光阻，可以說(shuō)是投射電容觸控面板最關(guān)鍵的材料之一。
EOC270系列光阻劑，適用于一片玻璃式(OGS)觸控製程之觸控面板製造。有良好的抗氫氟酸(HF)蝕刻能力并可剝除。且于化學(xué)強(qiáng)化玻璃或各種金屬基材上有優(yōu)良的附著力(大于4B)。
EOC200系列光阻劑，使用在觸控面板絕緣層與保護(hù)層，具有高硬度(4H)、良好金屬附著性(大于4B)、高穿透率(膜厚1.5μm，穿透率大于95%)等特性?？梢源钆錈o(wú)機(jī)鹼型(KOH type)顯影液與緩沖型(Buffer type)顯影液使用，也可搭配不含金屬離子的TMAH顯影液使用。
永光化學(xué)針對(duì)觸控面板厚度減薄的需求，開(kāi)發(fā)了EK系列的黑色光阻產(chǎn)品，EK520、EK570光阻劑，適用于OGS製程之觸控面板製造，具有高敏感度、良好黏著性(大于4B)、高表面電阻及優(yōu)良耐熱與耐化學(xué)的特性。
展望LCD發(fā)展趨勢(shì)將聚焦于OGS製程之關(guān)鍵化學(xué)品開(kāi)發(fā)，永光未來(lái)將再提升黑色光阻劑EK520&570黃光製程特性，并持續(xù)開(kāi)發(fā)及鑽研大于300°C耐高溫製程且具有高表面電阻特性的觸控面板用光阻劑，以持續(xù)滿足客戶需求。
